加工定制 | 是 | 型号 | CY-O1200-60-4CLV-PE |
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规格 | 射频频率: 13.56 MHz ±0.005% . | 适用范围 | 能广泛适应各类薄膜研究的需要 |
品牌 | 成越 | 产地 | 河南省郑州市 |
产品型号:CY-O1200-60-4CLV-PE
主要用途:等离子体增强型化学气相沉积 (PECVD)技术是借助于辉光放电(等离子体)使含有薄膜组成的气态物质发生化学反应,从而实现薄膜生长的一种制备技术。我公司综合了多项实验要求设计 生产了该款等离子pecvd系统,能广泛适应各类薄膜研究的需要比如:石墨烯制备、C纳米材料制备、氧化物制备。是一款不可多得的薄膜制备器材
等 离 子 发 生 器 | 输出功率: 5 ~500W ± 1% . 射频频率: 13.56 MHz ±0.005% . 反射功率: 最大约200W 阻抗匹配: 自动 |
真 空 泵 机 组 | 双极旋片泵, 极限真空0.1Pa (如需更高真空度可选配本公司高真空机组) KFD25 快接,不锈钢波纹管,手动挡板阀与法兰,真空泵相连. 管内真空可达1Pa 可选:本公司进口的防腐型数字式真空显示计,其测量范围为3.8x10-5 至 1125 Torr. 不需因测量气体种类不同而需要系数转换。(需要另外计算费用) |
质量流量计 | 三通道的质量流量计(精度0.02% ) :数字显示,自动控制. MFC 1范围: 0~100 sccm MFC 2和3: 0~500 sccm 一个混气罐,底部装有泄废液口. 进气接口: 1/4NPS. 出气接口: 1/4NPS. |
水冷系统 | 水冷法兰要求:水流量 >= 10L/M ,配有专业水冷机组。 |
管式炉 | 炉管直径:80mm 炉管长度:1400mm 炉膛长度:440mm 控温精度:±1℃ 工作温度:≦1200℃ |