产品型号：CY-O1200-60-4CLV-PE

主要用途：等离子体增强型化学气相沉积 （PECVD）技术是借助于辉光放电（等离子体）使含有薄膜组成的气态物质发生化学反应，从而实现薄膜生长的一种制备技术。我公司综合了多项实验要求设计 生产了该款等离子pecvd系统，能广泛适应各类薄膜研究的需要比如：石墨烯制备、C纳米材料制备、氧化物制备。是一款不可多得的薄膜制备器材

   与普通的CVD系统相比，因为有等离子源的介入,系统的沉积温度相对较低。

触屏输入，微电脑全自动控制。

配备有滑轨式管式炉可以轻松实现快速降温，实现快速退火。

该系统最高工作温度接近1150℃，能满足大多数热处理场合。

该设备可具体用于：碳、 ZnO 纳米管或纳米线的制备也可以用于制备单层石墨烯以及各种CVD实验。